QUELS RELAIS DE COMMUNICATION POUR INFORMER LES RESSORTISSANTS SENEGALAIS ELIGIBLES AU DISPOSITIF RETOUR – REINSERTION ?

JPEGC’est pour donner suite aux échanges organisés à Dakar les 6 et 7 avril 2016 dans le cadre du 5e comité mixte de l’accord franco-sénégalais de gestion concertée des flux migratoires que le Directeur Général de l’OFII, M Didier LESCHI a rencontré dans les bureaux du service de gestion des étudiants sénégalais à l’étranger, le Consul Général du Sénégal à Paris, M. Amadou DIALLO, ainsi que le responsable du service de gestion des étudiants sénégalais, M Moïse SARR.

Etudier de quelle manière construire de pertinents axes et circuits de communication destinés à informer les ressortissants sénégalais vivant en France de l’existence des opportunités offertes par l’OFII, travailler dans le cadre des accords bilatéraux à articuler les 3 niveaux d’aides du dispositif retour-réinsertion à la palette d’opportunités - sociales et financières - offertes par l’Etat sénégalais à ses ressortissants, mobiliser le plus largement possible le réseau des services consulaires sénégalais sur l’ensemble du territoire français pour diffuser les modalités et critères d’éligibilité au dispositif retour-réinsertion de l’OFII … Tels étaient les principaux objectifs de la rencontre du 19 mai dernier à Paris.
Monsieur Didier LESCHI qui était accompagné de la Directrice de la Représentation Sénégal a incité ses partenaires à activer leurs différents « réseaux » pour informer et accompagner, sur l’ensemble du territoire français, les ressortissants sénégalais volontaires au retour. Consulats, associations de la Diaspora sénégalaise qu’elles soient étudiantes, culturelles, cultuelles, voire organisations de « sans papier », toutes les opportunités de largement diffuser les modalités d’accompagnement au retour ont été déclinées pour trouver voies et moyens d’atteindre la cible à savoir les sénégalais en situation irrégulière, présents en France depuis au moins 6 mois, ainsi que les étudiants et jeunes professionnels dont le titre de séjour arrive à terme. La rencontre avait comme point d’appui les nombreux projets au retour réussis financés sur la période 2005-2015 dans la cadre de l’ancien dispositif OFII. Elle a permis de rappeler les principales innovations du nouveau dispositif avec ses trois niveaux d’aides, son parcours de réinsertion initié en France en Délégation Territoriale, finalisé au Sénégal à la Représentation de l’OFII permettant d’assurer un meilleur suivi, mieux adapté à la diversité des situations et des attentes des bénéficiaires. Le Consul Général du Sénégal à Paris et le chef du service de gestion des étudiants ont formulé le souhait de voir augmenter le nombre de bénéficiaires au dispositif OFII, particulièrement pour les étudiants en fin de formation, et les ressortissants en situation irrégulière en France. Manifestant un intérêt particulier à faire connaitre le programme d’accompagnement au retour, M. Amadou DIALLO a proposé d’organiser très prochainement une rencontre à Paris - 15 juin - permettant de réunir les représentants de 3 associations d’étudiants jugées les plus représentatives – FESSEF, Etudiants 221, Sen’Efficience – des représentants de plusieurs consulats du Sénégal en France pour permettre à l’OFII de présenter son nouveau dispositif, ainsi que les réalisations mises en œuvre dans le cadre de l’accompagnement au retour. C’est ainsi qu’il a été convenu dans un premier temps de construire, selon les cibles à atteindre, les axes de communication sur la base desquels nos partenaires sénégalais ont proposé l’organisation de rencontres informatives périodiques à décliner sur l’ensemble des départements français.

Cet échange très convivial, à l’image de l’accueil toujours chaleureux du pays de la Téranga, devrait permettre d’optimiser les chances d’informer plus largement les sénégalais intéressés à se réinstaller dans leur pays d’origine, particulièrement pour ce qui concerne les critères d’éligibilité et les procédures de mise en œuvre du dispositif retour-réinsertion.

Dernière modification : 30/05/2016

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